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  • 半导体超纯水设施在设施设计上,采纳成熟、可靠、先进、主动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处置工艺,确保处置后的超纯水水质出水电阻率抵达18.2MΩ.cm。关键设施及原料均采纳国际主流先进可靠产品,采纳PLC+触摸屏操纵,全套系统主动化程度高,系统稳定性高
  • 蓄电池锂电池生产用超纯水设施包括蓄电池生产用超纯水,锂电池生产用超纯水,太阳能光伏电池生产用超纯水,蓄电池格板用超纯水。电池中电解液的配备对超纯水要求十分严厉,通常要求水的电导率在0.1us/cm(电阻值在10兆欧姆)以上,传统用来制备电池用超纯水的工艺是常采纳阴阳树脂交换设施,该工艺的缺点在于树脂在使用一段时间以后要经常再生。随着膜离别技术的不断成熟,现在往往采纳反渗透过滤工艺
  • led半导体芯片清洗用超纯水设施关键设施及原料均采纳国际主流先进可靠产品,采纳PLC+触摸屏操纵,全套系统主动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水使用率高,运行可靠,经济合理。使设施与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设施可靠性。首选益民水处置,我公司设计的超纯水设施采纳成熟、可靠、先进、主动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处置工
  • 半导体超纯水设施系统
  • 电子与半导体废水回用设施系统由于膜离别技术具有低能耗、无相变、无污染,且离别效率、浓缩倍数高等优点,该系统采纳特别膜离别技术来浓缩电子与半导体废水,设计浓缩倍数为10-100倍(以体积计)
  • 半导体行业超纯水设施|半导体行业超纯水设施厂家|半导体行业超纯水设施制作商在设施设计上,采纳成熟、可靠、先进、主动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处置工艺,确保处置后的超纯水水质出水电阻率抵达18.2MΩ.cm。
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