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  • 硅原料清洗超纯水纯净水设施系统适用于电子行业生产用超纯水,硅原料光电产品清洗,液晶显示产品清洗系统配置:预处置、二级反渗透、EDI电再生陆续除盐装置。EDI是陆续电再生除盐装置的英文缩写,是电解、渗析及离子交换相结合的深度脱盐装置,由给水室、浓水室和电极室组成。给水室内装填常规混合离子交换树脂,给水室和浓水室之间装有阳离子交换膜和阴离子交换膜。
  • 薄膜电池多晶铸锭超纯水设施关键设施及原料均采纳国际主流先进可靠产品,采纳PLC+触摸屏操纵,全套系统主动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水使用率高,运行可靠,经济合理。使设施与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设施可靠性。
  • 单晶硅多晶硅太阳能电池板超纯水设施全膜法超纯水设施在设施设计上,采纳成熟、可靠、先进、主动化程度高的两级RO+EDI水处置工艺,预处置采纳盘滤过滤器+超滤工艺,除盐采纳二级反渗透+EDI工艺使産水电阻率抵达15MΩ.cm以上,终端供水采纳变频供水泵+二级精精混床+终端超滤膜确保处置后的超纯水水质电阻率抵达18.2MΩ.cm,使用率高,运行可靠,经济合理。关键设施及原料均采纳国际主流先进可靠产品,采
  • 多晶硅太阳能电池板超纯水设施单晶硅太阳能电池板清洗超纯水设施硅原料单晶硅多晶硅产品清洗超纯水设施。在单晶硅/多晶硅/硅原料/太阳能电池硅片、半导体器件生产中硅片须经严厉清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于消除外貌污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片外貌。
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